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企業情報
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代表者氏名：
白 鴻志 |
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設立年月日：
2017年12月7日 |
資本金：
24 百万円 |
従業員数：
7 人 |
本社住所：
〒615-8245
京都府 京都市 西京区 御陵大原 1-39 京大桂ベンチャープラザ南館 2215号室
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電話番号/FAX番号：
075-393-5843 / |
URL：
https://www.dps-inc.co.jp/ |
参考資料：
 AW_DualPore_Tech_Poster_JAP_2018Apr.pdf [ 689.5KiB ] |
会社概要：
ミクロ貫通孔とナノ細孔を独立制御できる二段階孔多孔質シリカ粒子「DualPore」を技術のコアに、化学工業用途向け吸着材を主とした独自製品を開発・製造販売する。
2013年7月 モノリス技術を応用した製品の研究開発を目的とし、株式会社エスエヌジー設立
2017年12月 DualPore粒子技術を応用した製品の製造・販売の特定目的会社として、株式会社ディーピーエス設立。
2018年4月 製品販売開始
2018年5月 株式会社フジミインコーポレーテッドと協業開始
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技術＆事業概要
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DualPoreは、貫通孔＋細孔”のデュアル(二段階）構造を持つ高純度純度多孔質シリカ粒子です。高い空隙率と比表面積を誇り、粒子のすみずみまで速やかに灌流し、吸脱着などの性能を高度化（パーフュージョン効果）、高性能かつ高速処理できる、非常に高効率な吸着剤性能を持つ粒子です。
従来の粒子と全く同じ方法でご使用いただけるので、現在ご使用の充填剤に置き換えるだけでお使いのシステムを高性能化します。特にペプチド、タンパク質をはじめとする巨大分子の分離精製において優れた性能を発揮します。前処理用吸着剤やオープンカラム/フラッシュクロマトグラフィー用充填剤に最適です。
また、通液するだけでppmからサブppbまで吸着するので、特殊装置は必要なく、低コストで簡便に残留貴金属や有害物質の吸着除去・再生回収の大量高速処理を可能にします。(用途例：廃液中の貴金属回収・有害物質除去、薬事規制（ICHQ3D)対応、ファインケミカル高純度化）
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主な製品＆サービス
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主な製品＆サービス名
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ステージ
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概要
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直近の目標
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DualPore メタルスカベンジャーシリーズ
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上市・販売
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貴金属吸着除去用メタルスカベンジャー。低濃度の残留金属を低圧フロースルーで、サブppbまで素早く吸着除去します。
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顧客獲得、技術改良
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DualPore OPEN シリーズ
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上市・販売
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オープンクロマトグラフィー用カラム。オープンカラムの使い方で従来粒子30μm相当の分離性能を発揮します。
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顧客獲得
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DualPore Flash シリーズ
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上市・販売
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中圧フラッシュクロマトグラフィー用カラム。15μm粒子充填分取HPLCカラムに匹敵する分離性能を発揮します。
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顧客獲得
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最近の成果・実績
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・2020年の上市を目指し、微細パラジウムナノ粒子を担持した高性能不均一系パラジウム触媒の開発中です。
・三菱総合研究所 INCF事務局主催「ビジネス・アクセラレーション・プログラム2019」のファイナリストに選出されました。
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アライアンスの希望
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販売窓口となって下さる商社、当社技術とシナジー効果の期待できる企業との事業提携を求めています。
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